Prosessorun istehsalında əvvəlcə kristallik silisium xüsusi hermetik sobada 1420 dərəcə C-yə qədər qızdırılır. Bu soba havadan təsirsiz qaz olan arqonu təmizləyir. Bunda sonra əridilmiş silisium xüsusi odadavamlı qabın içində (tiqledə) fırladılır. Hazırlanmış silisium kristalına ölçü və formasına görə karandaşı xatırladan metal batırılır və əks istiqamətdə hərəkət etdirilir. Bundan sonra əridilmiş silisium kristalı soyuducuda soyudulur. Hazırlanmış silisium məmulatının çəkisi təxminən 200 kq və diametri isə 200 mm-dir.

Silisium kristalı çox kövrək olur. Artıq silisium kristalını dəqiq ölçülərlə kəsmək olar. Həmçinin məmulatın molekulyar oriyentasiyası və təmizlik dərəcəsini yoxlamaq üçün kimyəvi və rentgenoloji analiz aparmaq lazımdır. Çəkisi 10 ton civarında olan lentvari mişarlar vasitəsilə silisium məmulatından qalınlığı 0,66 mm ölçüsündə halqalar kəsilir. Kəsilmə 99,99% dəqiqliklə yerinə yetirilir. Halqalar kəsildikdən sonra onların səthində mikroskopik zədələr olur. Bu zədələri təmizləmək üçün xüsusi cilalama aparatı vasitəsilə məmulatı hamarlamaq lazımdır. Cilalama aparatları adətən şüşədən, çuqundan, poladdan, latundan və misdən hazırlanır. Halqalar cilalama aparatına yerləşdirilir. Cilalama aparatının xüsusi almaz b ... Ardını oxu